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1月8日學術報告:集成電路與光刻機

来源: 发布时间:2021-01-05【字体:

  報告題目:集成電路與光刻機

  報告人:王向朝 研究员 中國科學院上海光學精密機械研究所

  報告時間:2021年1月8日 13:30~16:30

  報告地點:羲和廳(原多功能廳)

 

  摘要:

  光刻機是集成電路制造的核心裝備,直接決定了集成電路的微細化水平。光刻機像質檢測技術是支撐光刻機整機與分系統滿足光刻機分辨率、套刻精度等性能指標要求的關鍵技術。本次報告將介紹光刻機的發展曆程、光刻機整機、分系統與曝光光源的主要功能、基本結構、工作原理、關鍵技術等內容,並介紹國際主流的光刻機像質檢測技術以及本團隊提出的系列新技術。

 

  報告人簡介:

  王向朝,中國科學院上海光學精密機械研究所研究员,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(02专项)总体专家组专家。获国际与国内授权发明專利160余项,在国际与国内光学与光刻领域主流期刊发表学术論文360余篇。培养博士研究生60余名(含我国高端光刻机整机技术领域第一批博士研究生)。

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